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原子层沉积系统ALD

ALD Vacuum Coating System

祺跃科技自主研发的原子层沉积系统，采用内外双腔结构设计。优化的辐射加热系统，温度均匀性高，气流优化设计结合前驱体瓶加热，管路加热，不仅可以实现在平板基体上膜厚的均匀性沉积，而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖，可实现微纳深孔内部的均匀沉积，是先进电池材料、催化剂材料、半导体器件研究与应用的最佳研发工具。